偏光キューブビームスプリッター

偏光キューブビームスプリッターは接着された2つの直角プリズムから構成されています。接着面には入射光をS偏光及びP偏光に分割する誘電体多層膜コーティングが施されています。透過光の消光比(T_p/T_s)は1000:1以上です。入射面及び出射面には反射防止コーティングが施されます。

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ハイパワー偏光キューブビームスプリッター

ハイパワー偏光キューブビームスプリッターはパルスレーザー/CWレーザーの高出力環境で使用されるべく開発されました。オプティカルコンタクトされた2つの直角プリズムから構成され、接着面には無偏光の入射光をS偏光及びP偏光に分割する誘電体多層膜が施されています。透過光の消光比(T_p/T_s)は200:1以上となります。全ての入射面及び出射面には反射防止コーティングが施されます。

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ハイパワー薄膜プレートポラライザー

ハイパワー薄膜プレートポラライザーは、特に高出力パルス/CWレーザーに使用されるべく開発されました。ブリュスター角で使用されるよう設計されており、無偏光の入射光をS偏光及びP偏光に分割し、透過光の消光比（Tp/Ts）は400nm以上の波長では200:1以上、400nm未満の波長では100:1以上です。入射角の変化に繊細に反応し、ブリュスター角で使用することで最も効率よく性能を発揮します。

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IR 薄膜プレートポラライザー

IR薄膜プレートポラライザーは高出力CO₂レーザー向けに開発されました。無偏光の入射光をS偏光及びP偏光に分割し、透過光の消光比(T_p/T_s)は100:1を超えます。ブリュスター角にて設置されることでより効果的に機能します。

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広帯域偏光キューブビームスプリッター

広帯域偏光キューブビームスプリッターは幅広い帯域の光をS偏光とP偏光に分割します。接着された２つの直角プリズムから構成されており、接着面には入射光をS偏光及びP偏光に分割する誘電体コーティングが施されています。透過光の消光比（Tp/Ts）は500:1を超え、全ての入射及び出射面には広帯域反射防止コーティングが施されます。対応波長域例： 425～650nm ・ 650～1000nm

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UV 偏光キューブポラライザー

ハイパワー薄膜プレートポラライザーは、特に高出力パルス/CWレーザーに使用されるべく開発されました。ブリュスター角で使用されるよう設計されており、無偏光の入射光をS偏光及びP偏光に分割し、透過光の消光比（Tp/Ts）は400nm以上の波長では200:1以上、400nm未満の波長では100:1以上です。入射角の変化に繊細に反応し、ブリュスター角で使用することで最も効率よく性能を発揮します。

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